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TiN Hard mask蚀刻后清洗液

TiN Hard mask蚀刻后清洗液用于积体电路28nm及以下先进工艺大马士革工艺，提供Hard mask去除及蚀刻后聚合物清洗方案，产品已经批量量产。蚀刻液...

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TiN Hard mask蚀刻后清洗液

用于积体电路28nm及以下先进工艺大马士革工艺，提供Hard mask去除及蚀刻后聚合物清洗方案，产品已经批量量产。

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